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技術發展迅速 精密測量發展方向透視

時間:2017-12-22 作者:互聯(lian)網(wang)分享 閱讀(du):4715

1、測(ce)(ce)量精度由微米(mi)級向納米(mi)級發(fa)展,測(ce)(ce)量分(fen)辨力(li)進一(yi)步提高;

2、由點測量(liang)向面測量(liang)過渡(即由長(chang)度的(de)精(jing)密(mi)測量(liang)擴(kuo)展至形狀的(de)精(jing)密(mi)測量(liang)),提高整體測量(liang)精(jing)度;

3、隨(sui)著圖像處理(li)等(deng)新技(ji)術的應用,遙感(gan)技(ji)術在(zai)精密測量工程(cheng)中將得到推廣和普及;

4、隨著標(biao)準(zhun)化體制的確立和(he)測量不確定度的數值化,將有效提(ti)高測量的可靠性。

總之,測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)必須(xu)實(shi)現高精度化,同時也要求實(shi)現高速化和高效率(lv)化,因此,非接觸測(ce)量(liang)和高效率(lv)測(ce)量(liang)也必然成為新(xin)世(shi)紀精密測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)的重要發展方(fang)向。